|
|
'''PVDFyzikální depozice z plynné fáze''' ({{vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'', zkratka '''PVD''') je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik [[CVDChemická depozice z plynné fáze|CVDChemické depozice]], kdy jsou reaktanty v plannéplynné fázi).
Mezi tyto techniky patří:
-* Vakuové napařování
-* Depozice elektronovým svazkem ▼
-* Pulsní laserová depozice (PLD) ▼
▲- Depozice elektronovým svazkem
▲- Pulsní laserová depozice (PLD)
Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10e-4 až 100 Pa.
|