CMOS: Porovnání verzí
Smazaný obsah Přidaný obsah
m +Kategorie:Technologie číslicových obvodů |
+Proces výroby, +Soubor:CMOS fabrication process.svg, úprava části Odkazy |
||
Řádek 16:
Původně byl pro řídicí elektrodu používán [[hliník]], později byl nahrazen [[polysilikon]]em, který je odolnější proti vysokým teplotám.
== Proces výroby ==
{{Pahýl}}▼
{{překlad|en|CMOS|132910144}}▼
[[Soubor:CMOS fabrication process.svg|thumb|150px|Zjednodušený proces výroby CMOS invertoru na substrátu tvořeném polovodičem typu P. Elektrody G, S a D u reálných obvodů nejsou ve stejné rovině diagram není v měřítku.]]
Proces výroby CMOS obvodů je znázorněn na obrázku vpravo:
# Pokrytí desky oxidem křemičitým
# Vyleptání oxidu pro vytvoření P-MOSFET
# Vytvoření N-studny (vany)
# Vyleptání oxidu pro vytvoření N-MOSFET
# Pokrytí místa pro řídicí elektrody oxidem
# Uložení polykrystalického křemíku
# Vyleptání oxidu a polykrystalického křemíku
# Implantace elektrod S a D
# Pokrytí nitridem
# Vyleptání nitridu
# Pokrytí kovem
# Vyleptání kovu
== Generace podle velikosti ==
Řádek 49 ⟶ 64:
; 16 nm
==
=== Reference ===
▲{{překlad|en|CMOS|132910144}}
=== Literatura ===
* Jedlička Petr: Přehled obvodů řady CMOS 4000 - 1. díl - řada 4000 až 4099, [[BEN - technická literatura]], 1994-2005, ISBN 80-7300-167-5
* Jedlička Petr: Přehled obvodů řady CMOS 4000 - 2. díl - řada 41xx, 43xx, 45xx, 40xxx, [[BEN - technická literatura]], 1994-2005, ISBN 80-7300-168-3
Řádek 57 ⟶ 78:
* [[BSI CMOS]]
* [[Foveon X3]]
▲{{Pahýl}}
[[Kategorie:Polovodiče]]
| |||