Fotorezistor: Porovnání verzí

Smazaný obsah Přidaný obsah
m svojí → svoji (4. pád)
m napřímení odkazu
Řádek 15:
* použitím [[monokrystal]]u
* metodou tenkých vrstev
Ve starších konstrukcích se vyráběly fotorezistory ve skleněné baňce nebo ve větším plastovém pouzdře. Dnes se nejčastěji vyrábí s napařovanou vrstvou. Na [[Křemík|křemíkovou]] nebo [[Germanium|germaniovou]] destičku je nanesena vrstva [[KovKovy|kovu]] ve tvaru hrabiček. Je to do jisté míry přechod kov - [[polovodič]]. Vlivem osvětlení se mění [[Elektrická vodivost|vodivost]] mezi vodivými kovovými vložkami. Materiály často používané na výrobu fotoodporů jsou sulfid kadmia (CdS) a sulfid olova (PbS).
 
[[Soubor:Konstrukcni usporadani fotorezistoru.png|220px]]